Artikel XI.319, WER
Art. XI.319. [1 De maker van een topografie van een halfgeleiderproduct heeft het exclusief en tijdelijk recht deze te reproduceren en ze commercieel te exploiteren.
Voor de toepassing van deze titel moeten de termen topografie, halfgeleiderproduct en commerciële exploitatie verstaan worden in de zin bedoeld door de richtlijn 87/54 van 16 december 1986 van de Raad van de Europese Gemeenschappen betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderproducten of in de zin van elke wijziging besloten door de Raad van de Europese Unie met toepassing van artikel 1, § 2, van die richtlijn.]1
----------
(1)<Ingevoegd bij W 2014-04-19/60, art. 3, 024; Inwerkingtreding : 01-01-2015>
Voor de toepassing van deze titel moeten de termen topografie, halfgeleiderproduct en commerciële exploitatie verstaan worden in de zin bedoeld door de richtlijn 87/54 van 16 december 1986 van de Raad van de Europese Gemeenschappen betreffende de rechtsbescherming van topografieën van halfgeleiderproducten of in de zin van elke wijziging besloten door de Raad van de Europese Unie met toepassing van artikel 1, § 2, van die richtlijn.]1
----------
(1)<Ingevoegd bij W 2014-04-19/60, art. 3, 024; Inwerkingtreding : 01-01-2015>
Bron: Justel